HomeNieuwsRöntgenmetrologie voor de academische wereld en de industrie

Röntgenmetrologie voor de academische wereld en de industrie UT en Malvern Panalytical verlengen strategische onderzoekssamenwerking

De XUV Optics Research Group van de Universiteit Twente en Malvern Panalytical hebben hun strategische samenwerking uitgebreid. Deze samenwerking is vormgegeven rond een gezamenlijk onderzoeksprogramma ter ondersteuning van het gebruik van Malvern Panalytical's roadmap oplossingen voor hybride elementaire en structurele karakterisering van dunne films in toepassingssegmenten waaronder halfgeleiders en andere geavanceerde materialen.

Nanostructuren zoals dunne films zijn cruciaal voor veel van de elektronische apparaten die we dagelijks gebruiken. Deze structuren zijn slechts fracties van een nanometer tot enkele micrometers dik en om ze betrouwbaar te karakteriseren is analyse met röntgenstraling nodig. "Röntgenstralingstechnieken zijn niet-destructief, daarom bieden ze een enorme verbogen potentie voor snelle en toegankelijke geometrische karakterisering van verborgen atomaire profielen voor dunne films en vlakke nanostructuren", zegt Igor Makhotkin, universitair hoofddocent aan de UT.

Experimenteel en theoretisch werk

Onderzoek en ontwikkeling van nieuwe instrumenten, methoden en gegevensanalyse met röntgen is van vitaal belang voor de voortdurende verbetering van halfgeleiders en andere geavanceerde materialen.

De huidige samenwerking omvat zowel experimenteel als theoretisch werk aan de fundamenten van nieuwe röntgenmetrologie en röntgengegevensanalyses. Het onderzoek naar gegevensanalyse wordt mede begeleid door universitair hoofddocent wiskunde Dr. Matthias Schlottbom van de UT-groep Mathematics of Computational Science (MACS). Daardoor is dit echt interdisciplinair en faculteitsoverschrijdend onderzoeksproject is. Hij zegt: "Onze combinatie van hardware, natuurkundige modellering en algoritmen voor gegevensanalyse met elegante softwareontwikkelingen is essentieel voor het mogelijk maken van vooruitgang in röntgenmetrologie voor een breed publiek van niet-deskundige gebruikers uit de academische wereld en de industrie."

Centraal in de samenwerking staat een onderzoeksprogramma dat zich richt op het verleggen van de grenzen voor röntgenkarakterisering van dunne films door een fundamentele studie van het röntgenverstrooiingsproces. Het project richt zich op zowel computationele als experimentele aspecten van hybride (structurele en elementaire) karakterisering van dunne films en hun interfaces.

"De Universiteit Twente en Malvern Panalytical blijven samenwerken als partners in de ontdekking van nieuwe röntgenkarakterisatietechnologieën. De samenwerking zal zeer geavanceerde technieken opleveren om de toekomst van geavanceerde materiaalkunde vorm te geven en te helpen bij het creëren van een schonere, gezondere en productievere wereld", voegde Eugène Reuvekamp, Corporate Scientist bij Malvern Panalytical, toe.

Het programma wordt gefinancierd door de Universiteit Twente, de Nederlandse overheid (via het TKI-programma High Tech Systemen en Materialen) en Malvern Panalytical.

Meer informatie

Dr. Igor Makhotkin is universitair hoofddocent in de onderzoeksgroep X-ray Science & Technology (XST), ingebed in de industriële focusgroep XUV Optics, onder voorzitterschap van professor Dr. Marcelo Ackermann. Makhotkins werk is gericht op het oplossen van fundamentele uitdagingen in nanostructuurkarakterisering met röntgen-materie-interactie. Dr. Matthias Schlottbom is universitair hoofddocent in de groep Mathematics of Computational Science (MACS) in het departement Toegepaste Wiskunde. Het onderzoeksprogramma bij Malvern Panalytical staat onder leiding van Dr. Eugène Reuvekamp.

K.W. Wesselink - Schram MSc (Kees)
Wetenschapscommunicatiemedewerker (aanwezig ma-vr)